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薄层色谱硅胶板关于硅胶再生的相关问题

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薄层色谱硅胶板关于硅胶再生的相关问题

发布日期:2018-04-11 作者: 点击:

薄层色谱硅胶板


今天薄层色谱硅胶板小编给大家介绍关于硅胶再生的相关问题。


硅胶吸附有机杂质后的再生:


⒈ 焙烧法

对于粗孔硅胶,可放在焙烧炉内逐渐升温至500--600℃,约经6—8小时至胶粒呈白色或黄褐色即可。对细孔硅胶,焙烧温度不能超过200℃。


⒉ 漂洗法

将硅胶在饱和水蒸汽中吸附达到饱和后放热水中浸泡漂洗,并可结合使用洗涤剂以除去废油或其它有机杂质,再经净水洗涤后烘干脱水。

  

⒊ 溶剂冲洗法

根据硅胶吸附有机物种类,选用适当的溶剂将吸附在硅胶内的有机物溶出,然后将硅胶加热以脱除溶剂。


硅胶再生应注意的问题:


⒈ 烘干再生时应注意掌握逐渐提高温度,以免剧烈干燥引起胶粒炸裂,降低回收率。


⒉ 对硅胶焙烧再生时,温度过高会引起硅胶孔结构的变化而明显降低其吸附效果,影响使用价值。对于蓝胶指示剂或变色硅胶,脱附再生的温度应不超过120℃,否则会因显色剂逐步氧化而失去显色作用。


⒊ 经再生后的硅胶一般应过筛除去微细颗粒,以使颗粒均匀。


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